Elektronischer Speicher
Allgemein
Als elektronische Speichermedien werden Speicher bezeichnet, die Daten auf oder auf Basis von elektronischen Halbleiterbausteinen speichern.
Vor allem für den Endnutzer erhältlichen Halbleiterspeicher, werden oft als kombiniertes Produkt mit integriertem Controller hergestellt. Damit bilden sie einen integrierten Schaltkreis (IC_) beziehungsweiße einen Teil desselben, meist als „eingebetteter Speicher“ zu bezeichnen.
Klassen von Halbleiterspeichern
nach Art der Datenhaltung
Ein gängiges Kriterium zur Klassifizierung von Halbleiterspeichern, sind die Arten der Datenhaltung:
Datenhaltung |
änderbar |
Beispiel |
Nutzungsgründe |
Nutzungsbeispiele |
---|---|---|---|---|
flüchtig |
ja |
RAM |
schnell |
Arbeitsspeicher, Cache |
permanent |
nein |
ROM |
persistent, unveränderbar |
Betriebssystem, Firmware |
semi-permanent |
ja |
Flash-Speicher |
persistent, veränderbar |
USB-Sticks, SD-Karten, SSDs |
flüchtiger Speicher
Flüchtige Halbleiterspeicher verlieren ihren Speicherinhalt, sobald die Energieversorgung ausgeschaltet wird. Eine dauerhafte Speicherung ist nur mit unterbrechungsfreien Stromversorgung möglich. Da sie besonders schnell sind und damit gut als Arbeitsspeicher geeignet sind, werden sie dennoch aktiv genutzt.
- RAM
Random Access Memory – (wahlfreier Zugriff)
- DRAM
Dynamic Random Access Memory
- SRAM
Static Random Access Memory
permanenter Speicher
Permanente Halbleiterspeicher sind nicht neu programmierbar oder beschreibbar. Ihr Speicherinhalt ist dauerhaft unveränderlich. Typischerweise enthalten permanente Halbleiterspeicher Betriebssysteme, Anwendungsprogramme und Firmware an denen während des Betriebs keine Änderungen vorgenommen werden müssen. In der Regel werden ROM- und PROM-Bausteine austauschbar auf der Platine befestigt.
- ROM
Read Only Memory – (nur lesender Zugriff)
- PROM
Programmable ROM
Heute dient meist Flash-Speicher als EPROM- und EEPROM-Ersatz.
semi-permanenter Speicher
Semi-permanente Halbleiterspeicher sind digitale Festwertspeicher, die wiederholt neu programmiert werden können.
- EPROM
Erasable Programmable ROM – (lesend und schreibend)
- EEPROM
Electrically Erasable Programmable ROM
- Flash-Speicher
Flash-EEPROM – (blockweise gleichzeitig)
- FRAM
Ferroelectric RAM
- MRAM
Magnetoresistive RAM
- PCRAM
Phase Change RAM
- RRAM / ReRAM
Resistive RAM
Heute dient meist Flash-Speicher als ROM- und PROM-Ersatz.
nach Art des Speicherzugriffs
Alternativ können Halbleiterspeicher zum Beispiel auch nach der Art des Speicherzugriffs klassifiziert werden.

Technik
Einige Beispiele zur technischen Funktionsweiße von elektrischen Speichermedien:
flüchtiger Speicher
RAM
Zu RAM Arbeitsspeichern zählen alle Schreib-Lese-Speicher mit wahlfreiem Zugriff.
Die Speicherzellen sind in einer zweidimensionalen Matrix angeordnet. Mit dem Kreuzungspunkt des Reihen- und Spaltenzählers als eindeutige Adresse, sind sie gezielt ansprechbar. Der Speicherzustand jeder so ausgewählten Zelle kann beliebig oft gelesen oder verändert werden. Ein Ausfall der Betriebsspannung löscht alle im RAM gespeicherten Informationen.

SRAM
SRAM speichert den jeweiligen Binärwert in einem Flipflop, welches in bipolarer TTL- und ECL-Technik sowie mit MOS-Feldeffekttransistoren hergestellt werden kann.
- Bipolare Transistortechnik
Prinzipschaltung in TTL-Technik für eine Flipflop Speicherzelle:
- Aktivierung
Die Speicherzelle wird durch eine anliegende Betriebsspannung aktiviert. Der Emitterstrom des leitenden Transistors kann nur noch über seine Schreib-Lese-Leitung fließen.
- Lesevorgang
Bei einem in der Zelle gespeicherten Binärwert 1 ist der Transistor K2 gesperrt und K1 leitend.
Aktivierung
Transistor K1 frei / Transistor K2 gesperrt
Strom fließt durch SL1 / SL2 bleibt stromlos
Q hat High Pegel -> Speicherzustand 1 / Q-Nicht hat Low Pegel
Bei einem in der Zelle gespeicherten Binärwert 0 ist der Transistor K1 gesperrt und K2 leitend.
Aktivierung
Transistor K2 frei / Transistor K1 gesperrt
Strom fließt durch SL2 / SL1 bleibt stromlos
Q hat Low Pegel -> Speicherzustand 0 / Q-Nicht hat High Pegel
Schreibvorgang
Aktivierung
High Pegel an SL1 & Low Pegel an SL2
sperrt K1 & schaltet K2 frei -> Speicherzustand 0
Aktivierung
Low Pegel an SL1 & High Pegel an SL2
sperrt K2 & schaltet K1 frei -> Speicherzustand 1
DRAM
DRAM speichert die Information als Kondensatorladungen. Ein aufgeladener Kondensator entspricht der logischen 1, ein entladener Kondensator der logischen 0. Einer oder mehrere Transistoren schalten den Kondensator an die Schreib-Lese-Leitungen.
Die Aktivierung der Zeile erfolgt mit dem „row address strobe“ RAS-Signal gefolgt von der Spaltenadresse, dem „column address strobe“ CAS-Signal zum Auslesen der gespeicherten Zustände.

Für den Lese- und Schreibvorgang gibt es getrennte Auswahl- und Datenleitungen.
- Leseprozess
Bei einem in der Zelle gespeicherten Binärwert 1 ist das Gate des Transistor K1 positiv geladen:
High Pegel an Datenausgangsleitung
gleicht den Einfluss der unterschiedlichen Leitungskapazitäten aus
positiver Spannung an Leseauswahlleitung
Transistor K2 leitend
positives Potenzial am Drain des Speichertransistors K1
K1 leitet
zieht das Potenzial der Datenausgangsleitung
invertierter Datenausgangspegel -> Speicherzustand 1
Bei einem in der Zelle gespeicherten Binärwert 0 ist das Gate des Transistor K1 nicht geladen:
High Pegel an Datenausgangsleitung
gleicht den Einfluss der unterschiedlichen Leitungskapazitäten aus
positiver Spannung an Leseauswahlleitung
Transistor K2 leitend
positives Potenzial am Drain des Speichertransistors K1
K1 gesperrt
Datenleitung behält High Pegel
invertierter Datenausgangspegel -> Speicherzustand 0
- Schreibprozess
In die Zelle soll eine logische 1 geschrieben werden:
High Pegel an Dateneingang
High Pegel an der Schreibauswahlleitung
Transistor K3 leitend
lädt die Gatekapazität von K1 positiv auf
Low Pegel an Schreibauswahlleitung
Transistor K3 gesperrt -> Speicherzustand 1
Da auch MOS-Transistoren im Sperrzustand keine idealen Nichtleiter sind, muss der Ladezustand des Speicherkondensators regelmäßig aufgefrischt werden.
- Burst-Refresh:
Der Refresh erfolgt für alle Speicherzellen gleichzeitig. Der normale Speicherbetrieb ist um 40 µs relativ lange unterbrochen.
- Cycle-Stealing:
Der Refresh erfolgt verteilt nacheinander auf jeweils nur eine Zeilenadresse. Durch ein WAIT-Signal gesteuert ist der normale Zugriff bei 128 Zeilen nur noch für rund 300 ns unterbrochen.
- Hidden-Refresh:
Der Refresh ist so auf den Prozessortakt synchronisiert und erfolgt nur, wenn dieser keine Speicherzugriffe ausführt. Die Speicherbausteine werden als (synchrone) SDRAM bezeichnet.
Festwertspeicher
permanenter Speicher
ROM
Festwertspeicher mit wahlfreiem Zugriff sind vom Hersteller vorprogrammiert oder vom Nutzer einmalig programmierbar. Die gespeicherten logischen Zustände lassen sich beliebig oft lesen.
- Schreibprozess durch Maskenprogrammierung
Eine aufgelegte Maske bestimmt beim Ätzprozess, wo aktive Koppelelemente zwischen den Wort- und Bitleitungen entstehen und wo sie fehlen.
Maskenprogrammierung ist für kleinere Stückzahlen und spezielle Anwendungen nicht rentabel.
PROM – Programmierbare Festwertspeicher
PROM sind einmalig programmierbar und arbeiten danach als ROM.
Die Zellen sind als Dioden- oder Transistormatrix aufgebaut, deren Verbindungspunkte bei der Programmierung nicht umkehrbar hochohmig oder niederohmig zerstört werden.

In einer Variante ist jedes Zellenelement mit einem sehr dünnen Chrom-Nickel-Sicherungsdraht verbunden, der bei der Programmierung überlastet und hochohmig zerstört wird.
In einer anderen Variante führt ein Spannungsimpuls auf der jeweiligen Bitleitung zum Kurzschluss der Diode.
semi-permanenter Speicher
EPROM Festwertspeicher
EPROM-Speichertransistoren haben ein zusätzliches vollkommen isoliertes „Floating-Gate“, welches mit seiner elektrischen Ladung den Speicherzustand der Zelle bestimmt. Nach der Herstellung und im gelöschten Zustand ist das Floating-Gate ladungsneutral. Es ist mit energiereicher UV-C Strahlung komplett löschbar und kann danach neu programmiert werden.

Leseverfahren
Niedrige Spannung an Adressleitung, die den Transistor mit dem negativ geladenen Floating-Gate nicht mehr leitend schalten kann
Das Potenzial auf der Bitleitung wird nicht nach Masse gezogen und bleibt auf High Pegel. -> Speicherzustand 1
Niedrige Spannung an Adressleitung, die den Transistor mit dem negativ geladenen Floating-Gate nicht mehr leitend schalten kann
Eine Zelle mit nicht geladenem Floating-Gate leitet und die Bitleitung wechselt auf Low Pegel. -> Speicherzustand 0
Schreibprozess (Programmierung nach dem HCI-Verfahren)
Hohe Spannung, welche Elektronen stark beschleunigt (hot electrons)
Diese können sowohl die Energiebarriere zum Leitungsband überwinden als auch durch Stoßionisation weitere Ladungsträgerpaare erzeugen.
Energiereiche Elektronen aus diesem Lawineneffekt (Avalanche-Effekt) gelangen in das Leitungsband, wodurch dieses negativ aufgeladen wird.
Die Ladung bleibt nach dem Abschalten der Programmierspannung erhalten. -> Speicherzustand 1
Löschverfahren
Mit kurzwelliger, energiereicher Strahlung kann sich das Floating-Gate entladen. Die energiereichen Photonen erzeugen in der Isolierschicht Elektronen-Lochpaare und die im Floating-Gate gespeicherte Ladung kann bei anliegender Spannung abfließen.
EEPROM Festwertspeicher
Das Programmieren und Löschen erfolgt ohne externes Programmiergerät in der Einsatzschaltung. Die Ladungsverschiebung auf das Floating-Gate erfolgt nach einem von Fowler und Nordheim mathematisch beschriebenen quantenmechanischen Tunneleffekt.

Leseverfahren
normale niedrige Betriebsspannung an Wort- und Bitleitung
Schalttransistor leitend
selbe Spannung an Control-Gate
Ist das Floating-Gate negativ geladen, so bleibt der Transistor gesperrt und die Spannung auf der Bitleitung hoch.
Der Leseverstärker gibt High Pegel aus. -> Speicherzustand 1
Mit dem Anlegen der normaler niedriger Betriebsspannung an die Wort- und Bitleitung wird der Schalttransistor leitend.
Mit ebenfalls 5 V am Control-Gate wird der Speicherzustand gelesen.
Ist keine Ladung auf dem FG gespeichert, dann wird der Transistor leitend geschaltet und zieht die Spannung der Bitleitung nach Masse
Der Leseverstärker gibt Low Pegel aus. -> Speicherzustand 0
Schreibprozess (Programmierung)
Grundzustand: Geladenes Floating-Gate
Programmierspannung an Adressleitung mit dem Gate des Schalttransistors und das Steuergate CG des Speichertransistors
Schalttransistor leitet
Programmierspannung an CG verursacht Tunneleffekt und zieht Elektronen aus dem Drainbereich auf das Floating-Gate
Floating-Gate speichert negative Ladung und erhöht damit das Potenzial zwischen Gate und Source
Speichertransistor wird leitend geschalten -> Speicherzustand 1
Löschverfahren
Das Floating-Gate kann entladen und somit umprogrammiert werden, wenn an der Adress- und Bitleitung die Programmierspannung anliegt und das Control-Gate Massepotenzial hat.
Der Schalttransistor leitet und die Drainspannung unter dem FG ist gleich der Programmierspannung. Der Speichertransistor bleibt mit CG = 0 V gesperrt.
Die vom Drain ausgehende hohe Feldstärke zieht mit dem Tunneleffekt die negative Ladung vom FG ab.
NAND- vs. NOR-Flash
Die NAND- und NOR-Architekturen unterscheiden sich grob gesehen in der Speicherdichte und der Zugriffsgeschwindigkeit.
NOR-Flash

NOR-Flash [Elektronik-Kompendium]
Speicherzellen parallel verschaltet
geringeren Widerstand zwischen Stromquelle und Auswerteschaltung
wahlfreier und direkter Zugriff -> kurze Zugriffszeiten
Nutzung: Programmspeicher von Mikrocontrollern (z.B. als nichtflüchtiger Speicher für das BIOS)
NAND-Flash

NAND-Flash [Elektronik-Kompendium]
Speicherzellen intern seriell verschaltet -> Lesen und Schreiben nur in Blöcken möglich
geringe Anzahl an Datenleitungen -> weniger Platz
Nutzung: Massenspeicher, wie Speicherkarten, USB-Sticks und SSDs (geeignet, da diese blockweise lesen)
Vergleich zu anderen nichtflüchtigen Speicherarten:
höhere Speicherdichte zu geringen Kosten
schnelle Schreibgeschwindigkeit
geringer Stromverbrauch